Новый российский литограф позволит выпускать чипы по технологии 350 нм

 

Фото: ЗНТЦ

 

В Зеленоградском нанотехнологическом центре (ЗНТЦ) объявили о создании и успешном прохождении этапа госкомиссии нового отечественного фотолитографа. Установка позволит выпускать микросхемы по технологическому процессу 350-нм, что является достаточно серьезным шагом в развитии российской микроэлектроники.

 

Добавить комментарий

Ваш адрес email не будет опубликован. Обязательные поля помечены *